ついに実用化したEUV露光、量産への全面展開に課題残すが解決策は見えている

　半導体チップの進化を下支えする微細加工技術の分野で、長年実用化が待ち望まれていた極端紫外線（EUV）露光が実用化した。本格的なデータ活用社会の到来を前にして、「ムーアの法則」の破綻に不安を抱えていた。EUV露光の実用化によって、半導体の微細化はまだしばらく継続できる見通しになった。