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 半導体チップの進化を下支えする微細加工技術の分野で、長年実用化が待ち望まれていた極端紫外線(EUV)露光が実用化した。本格的なデータ活用社会の到来を前にして、「ムーアの法則」の破綻に不安を抱えていた。EUV露光の実用化によって、半導体の微細化はまだしばらく継続できる見通しになった。

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