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 半導体チップの進化を支える微細加工技術で、長年実用化が待ち望まれていた極端紫外線(EUV)露光が実用化した。本格的なデータ活用社会の到来を前にして、半導体チップの進化機軸である「ムーアの法則」が破綻してしまうのではないかという不安があった。EUV露光の実用化によって、半導体の微細化はしばらく継続できる見通しになった。

 ただし、EUV露光を様々なチップの製造に応用し、ガンガン微細化を推し進められる状態になったのかと言えば、そうでもなさそうだ。より多くのチップに適用するには、難解な課題の数々をクリアしなければならない。

 そこで今回のテクノ大喜利では、大喜利回答者の中でも特に半導体製造技術の現状に詳しい方々に、EUV露光が実用化したことのインパクトの度合いと、その賞味期限などについて聞いた。

【質問1】EUV露光の実用化による恩恵を最も大きく受けるチップは何だと思われますか?
【質問2】EUV露光をより多くのチップの製造に適用するため、早期解決が望まれる積み残された技術的課題は何だと思われますか?
【質問3】EUV露光の実用化によって、ムーアの法則は、どの程度延命したと思われますか?

 3つの質問に対するそれぞれの識者による回答要旨は、以下の表の通りだ。

表1 テクノ大喜利「EUV露光はムーアの法則を救うのか」回答まとめ
表1 テクノ大喜利「EUV露光はムーアの法則を救うのか」回答まとめ
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