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 米Intel(インテル)は、米オハイオ州に新たな製造拠点を設ける。2022年1月21日(米国時間)に明らかにした。同社が米国内の新たな地域に製造拠点を設けるのは「40年ぶり」(同社)だという。まず、200億米ドル(1米ドル114円換算で2兆2800億円)を投じて2つの新工場を設立する。22年後半に着工し、25年の稼働を見込む。新拠点向けに約1000エーカー(約4km2)の敷地を取得している。この敷地には8つの工場を建設可能で、今後10年の総投資額は1000億米ドル(同11兆4000億円)規模になるとみている。

オハイオ州に建設予定の新工場のイメージ
オハイオ州に建設予定の新工場のイメージ
(出所:インテル)
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オハイオ州の新拠点と建設予定の工場などのイメージ
オハイオ州の新拠点と建設予定の工場などのイメージ
(出所:インテル)
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 オハイオ州の新工場では、ファウンドリー(受託生産)事業も行う。「Intel 18A」を含む最先端プロセス技術を適用する予定。21年にインテルは、25年上期に同プロセスでの生産開始を目指すと発表しており、新工場の稼働時期と一致する。なお、プロセス名最後の「A」はÅngström(10-10m、オングストローム)を表している。同社はその前世代に相当する「Intel 20A」から、トランジスタを従来のFinFETから「GAA(Gate All Around)トランジスタ」に切り替える。Intel 18AはGAAプロセスの第2弾となる。

 インテルがオハイオ州に進出することで、半導体装置メーカーや材料メーカーなども集まり、米国における半導体の一大拠点になるとみている。既に、米Air Products(エアプロダクツ)や米Applied Materials(アプライドマテリアルズ)、米LAM Research(ラムリサーチ)、米Ultra Clean Technology(ウルトラクリーンテクノロジー)がオハイオ州に拠点を設ける計画を示しているという。

 新工場が25年に稼働した際の雇用者数を3000人と見込む。オハイオ州の大学などと協力して半導体分野の人材育成にも努める。共同研究や専門カリキュラムなどを通じて、今後10年間で約1億米ドルを投資するという。