台湾DRAM大手メーカーのNanya Technology（南亜科技）は、新北市にEUV露光装置を備えた最先端工場を建設する計画を2021年4月20日（台湾時間）に発表した（ニュースリリース）。この工場の建設に当たって、新北市および中央当局からの支援を受ける。
今回の工場建設計画を発表した会見
（出所：Nanya Technology）
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新工場は、同社の本社と同じ新北市泰山区にある泰山南林科技園（Taishan Nanlin Technology Park）に建てる。2階建てのクリーンルームを備え、300mmウエハーを月間4万5000枚処理できる能力を持つ予定。EUV露光装置を使い、10nmクラスの微細プロセスでDRAMを製造するという。
発表された計画では、向こう7年間に3段階で新工場を建てる。まず第1期工事を21年下期に始める。23年に竣工し、24年から量産を開始する予定。総投資額は約3000億ニュー台湾ドル（約1兆2000億円）に上るという。
同社は20年に10nmクラス（1Xnm）のプロセス開発に成功しており、新工場でも当初はこの1Xnmプロセスを用いた生産が行われるもよう。今回、EUV露光装置を用いた工場の建設も表明しており、第2期あるいは第3期工事で建てる工場でEUV露光装置を利用するものとみられる。
