「ISSCC 2013」の会期初日の2月17日（米国時間）に開催されたチュートリアル「Circuit Design using FinFETs」では、台湾TSMC（Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd.） Program Director, Chief Technology OfficeのBing J. Sheu氏が講師を務め、FinFETを用いたスタンダード・セルやSRAM、アナログ回路などの設計手法を紹介した。同社は2013年末にリスク量産を始める16nm世代でFinFETを導入する予定であり、FinFETに関しては「問題の洗い出しを済ませており、解決策も用意できている」（Sheu氏）とした。
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