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 LSI製造の要となるリソグラフィ技術を支えるのが,フォトマスクである。転写パターンの寸法が露光波長を下回ってからは,フォトマスクにおいて,光近接効果補正や超解像技術を駆使することが微細化のカギとなった。ここへ来て液浸露光の量産導入が始まり,フォトマスクには新たな進化が求められている。EUV(extreme ultraviolet)露光やナノインプリントといった次世代リソグラフィ対応のマスク開発も急がれる。連載の第3回は,こうしたフォトマスク技術のトレンドを解説する。

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