連載の第3回で紹介したフォトマスク技術と同様に，リソグラフィの進化を支えてきたのがフォト・レジストである。レジスト・メーカーは，露光光源の短波長化への対応に加えて，純水とレジストが接する液浸露光の導入に伴う課題に対応してきた。さらに，ダブル・パターニングやEUV（extreme ultraviolet）露光といった次世代リソグラフィ技術でも，レジストが成否のカギを握る。連載の第4回は，こうしたレジスト技術の動向を解説する。
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