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 32nm世代で多くのロジックLSIメーカーが導入する高誘電率(high-k)ゲート絶縁膜/メタル・ゲート。米Intel Corp.が業界に先駆けて2007年に量産化したが,同社のプロセスは「コストが高く汎用LSIには使えない」との声が多かった。ここへ来て,汎用LSIに向けた低コストのhigh-k/メタル・ゲートの開発の進展を示す成果が続々と出てきた。従来はCMOSのしきい電圧制御にとどまっていたが,性能向上やプロセスの最適化,信頼性評価に関する成果が相次いでいる。

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