32nm世代で多くのロジックLSIメーカーが導入する高誘電率（high-k）ゲート絶縁膜/メタル・ゲート。米Intel Corp.が業界に先駆けて2007年に量産化したが，同社のプロセスは「コストが高く汎用LSIには使えない」との声が多かった。ここへ来て，汎用LSIに向けた低コストのhigh-k/メタル・ゲートの開発の進展を示す成果が続々と出てきた。従来はCMOSのしきい電圧制御にとどまっていたが，性能向上やプロセスの最適化，信頼性評価に関する成果が相次いでいる。
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