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 「ArFリソグラフィは少なくとも2015年に量産する11nm世代まで延命できる。必要ならばその先への延命も可能だ」(米Intel Corp.,Technology and Manufacturing Group,Director,Advanced LithographyのYan Borodovsky氏)。EUV(extreme ultra violet)露光などの次世代リソグラフィ技術の開発が着々と進む一方,現行のArFリソグラフィの延命に向けた取り組みが並行して進んでいる。この有力な技術として,“計算機リソグラフィ”が急浮上してきた。LSIメーカーやEDAベンダー,露光装置メーカーがこぞって注力している。

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