ハーフ・ピッチ10nm台のパターンを，波長351nmの光で形成する。こうした手法の基礎となる技術を米Massachusetts Institute of Technology（MIT）が開発した。現行では2回にとどまる露光を，8回繰り返して実現する。現在は4回露光によるハーフ・ピッチ25nmの形成に成功した段階である。今後「1～2年以内に8回露光によるハーフ・ピッチ12.5nmを実現する」（MIT，Director，Space Nanotechnology LaboratoryのMark L. Schattenburg氏）。対象は，メモリーのセル領域のように，直線が等間隔で並ぶパターンの形成に限られる。
この記事は会員登録で続きをご覧いただけます
-
会員の方はこちら
ログイン -
登録するとマイページが使えます
今すぐ会員登録（無料）
日経クロステック登録会員になると…
・新着が分かるメールマガジンが届く
・キーワード登録、連載フォローが便利
さらに、有料会員に申し込むとすべての記事が読み放題に！
「初割」2/7締切迫る！
＞＞詳しくは
日経クロステックからのお薦め
「デジタル＆ソリューション」をキーワードに、多様な事業を展開しています。
日経BPは、デジタル部門や編集職、営業職・販売職でキャリア採用を実施しています。デジタル部門では、データ活用、Webシステムの開発・運用、決済システムのエンジニアを募集中。詳細は下のリンクからご覧下さい。
