PR
 プラズマ酸窒化装置をLSIのトランジスタ形成工程に導入する動きが本格化してきた。これまでは高品質な酸窒化膜を形成できる熱処理装置が主流だったが,ここへ来て低ダメージ化を進めたプラズマ装置が存在感を強めている。その代表例が,東京エレクトロンの「RLSA(radial line slot antenna)」プラズマ酸窒化装置である。ロジックLSIだけではなく,フラッシュ・メモリーやDRAMまで応用範囲を拡大した。プラズマ技術を強みにする装置メーカーにとっては,新たなチャンスが広がることになる。