露光技術の国際会議である「SPIE 30th International Symposium Microlithography（Microlithography 2005）」が米国カリフォルニア州サンノゼ市のコンベンション・センターで開幕した。今年は開催場所が，十数年続いたサンタクララ・コンベンション・センターから昔の会議場所であるサンノゼに戻った。参加登録者数は，初日の段階で，昨年より16%多く，また講演数は19％多くなったとのことである。最初に，SPIEのフェローとして今年選ばれた米Advanced Micro Devices, Inc.（AMD）のH. Levinson氏とキヤノンの鈴木章義氏が紹介された。続いて，Ｆ. Zernike賞に米University of TexasのC. G. Wilson教授が選ばれたことが紹介され，プレナリー講演が始まった。
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