韓国Samsung Electronics Co.,Ltd.は,セル面積を0.028μm2としたスタック型DRAMセルを試作した。同社によれば,DRAMセルの面積としては世界最小という。設計ルールは68nmである。セル面積を従来より小さくきたのは,6F2のセル構造を採用したため。ビット線の間隔は3F,ワード線の間隔は2Fである。同社は2004年のVLSI Technologyで設計ルール70nmのDRAMセルを試作したが,このときのパターンは8F22だった(Tech-On!関連記事1)。
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