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 「2005 Symposium on VLSI Technology」初日午後のセッション4A「Metal Gate Technology」ではメタル・ゲート技術に関し,2種類のメタルをCMOS上に集積化させる提案,CMOS向けに適した仕事関数を得るための探索的な報告がそれぞれ登場した。

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