ニコンは，液浸技術を導入したArF露光装置「NSR-S609B」の販売を2005年第4四半期に開始すると発表した（リリース）。開口数（NA）は，オランダASM Lithography社（ASML）が2004年に評価向けにリリースした液浸ArF露光装置「XT:1250i」の0.85をしのぐ1.07。量産向け露光装置として初めてNA1.0の壁を超える。
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