米Epion Corp.は，京都大学名誉教授の山田公氏らが開発したガス・クラスタ・イオン・ビーム（GCIB）生成技術を製品化し，半導体向けのイオン打ち込み装置としての応用を狙っている。ここへ来て，装置を評価してきた日本の大手半導体メーカーが導入をほぼ決定した。正式に導入されれば，半導体向け装置としては第1号機になる。
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