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 SiCエピタキシャル・ウエーハの事業化を目指す動きが活発化してきた。産業技術総合研究所(産総研),電力中央研究所,昭和電工の3者は,高品質のSiCエピタキシャル・ウエーハを低コストに量産する技術を共同開発する。さらに関係者で設立するウエーハ生産ベンチャに技術を移転し,2006年10月をメドにSiCエピタキシャル・ウエーハの国内向け供給を開始する。今回のプロジェクトで中心的役割を担う産総研パワーエレクトロニクス研究センター研究センター長代行,総括研究員の奥村元氏は,SiCウエーハ最大手の米Cree, Inc.に「品質とコストで勝つ」と意気込む。

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