ミクロやナノの世界で回路を形成する半導体，FPDの製造プロセスは，まさに「汚染との戦い」である。汚染の除去に用いられるウェット洗浄には「高清浄な表面を，再現性良く， しかも低コストで達成する」ことが求められており，要求レベルは年々厳しくなっている。本講座では，ウェット洗浄の技術向上を支える洗浄の原理，汚染の吸着・吸着防止・脱離機構を具体的なデータと共に詳しく解説する。また，近年～次世代の技術課題を例に，課題解決の考え方，洗浄技術の高性能化例を紹介する。
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