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　韓国Samsung Electronics Co., Ltd.は，米国の半導体研究開発コンソーシアムであるInternational SEMATECHに参画する。Samsungから技術者数名が出向する。45nmノード（hp65）以降の露光技術である液浸ArF露光やEUV（extreme ultra violet）露光のほか，ゲート絶縁膜向け高誘電率（high-k）材料や層間絶縁膜向け低誘電率（low-k）材料などの新規材料の開発プログラムに参加する。

　Samsungは2005年4月に，SEMATECHの傘下組織であるInternational SEMATECH Manufacturing Initiative(ISMI)に加入していたが，SEMATECH本体の開発プログラムに加わるのは今回が初めてとなる。ISMIは2004年にSEMATECHの子会社として発足したコンソーシアムで，半導体工場の生産性向上やウエーハ当たりのコスト削減などを目指した開発を進めている（Tech-On! 関連記事1）。SEMATECHおよびISMIには，米Intel Corp.，独Infineon Technologies AG，台湾Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd.（TSMC），松下電器産業などが参加している。

　なお，SamsungはSEMATECHのほかに，半導体先端テクノロジーズ（Selete）や，ベルギーIMEC，米IBM Corp.などが主導する「Albany NanoTech」といった研究開発コンソーシアムに参加している（Tech-On! 関連記事2，Tech-On! 関連記事3）。