「液浸ArF露光はどこまで延命できるか」。「EUV（extreme ultraviolet）露光は本当に立ち上がるのか」。2006年から開発が本格化し，2009年に量産へ移行する32nmノード（hp45）のリソグラフィ技術に関する議論が活発化している。液浸かEUVかによって，DFM（design for manufacturability）をはじめとするLSI設計・製造戦略が大きく左右されるためである。LSIメーカーは自社の事業戦略に合った露光方式を早急に見極めなくてはならない。一方，2007年から量産が始まる45nmノード（hp65）に関しては，液浸ArF露光装置を量産ラインで実証するフェーズに突入した。露光だけではなく，周辺の塗布・現像など，さまざまな装置・部材技術の完成度が問われる。
この記事は会員登録で続きをご覧いただけます
-
会員の方はこちら
ログイン -
登録するとマイページが使えます
今すぐ会員登録（無料）
日経クロステックからのお薦め
日経BP 総合研究所がお話を承ります。ESG／SDGs対応から調査、情報開示まで、お気軽にお問い合わせください。
ブランド強化、認知度向上、エンゲージメント強化、社内啓蒙、新規事業創出…。各種の戦略・施策立案をご支援します。詳細は下のリンクから。
「デジタル＆ソリューション」をキーワードに、多様な事業を展開しています。
日経BPは、デジタル部門や編集職、営業職・販売職でキャリア採用を実施しています。デジタル部門では、データ活用、Webシステムの開発・運用、決済システムのエンジニアを募集中。詳細は下のリンクからご覧下さい。
