「2009年の量産に間に合う現実的な露光手段は，液浸ArFしかない」。「マスク価格の高騰を防ぐにはEUV（extreme ultraviolet）露光が必須」。リソグラフィ分野では「液浸派」と「EUV派」の論争が激しさを増している。この議論は今後のLSI設計・製造戦略に大きな影響を与える。液浸かEUVかによって，マスク・パターンの複雑さやDFM（design for manufacturability）の難易度が大きく異なるためである。DFMをはじめとする設計力で勝負するLSIメーカーはEUV露光ではなく，液浸露光を選択する可能性が高い。
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