32nmノード（hp32）の露光技術を巡る議論が盛り上がっている。「セミコン・ジャパン2005」に併設された米Cymer, Inc.主催の「第13回 サイマー・シンポジウム」では「Lithography Technology for the 32nm node」をテーマに，LSIメーカーや装置・部材メーカーが意見を出し合った。
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