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　露光向けのArFエキシマ・レーザー光源の高出力化が加速している。最大手の米Cymer, Inc.はレーザー・パルスの繰り返し周波数が6kHz，出力が90Wの「XLA 400」を発表し，前世代品の「XLA 300」（6kHz，60W）に比べて1.5倍の高出力化を図った。

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