最先端のLSI配線より細かい120nmピッチの凹凸を，大面積のフィルム上に形成できる微細加工技術を旭化成が開発した（図1）。まずは，液晶パネル向けの偏光フィルムの製造に応用していく。すでに10cm角の偏光フィルムを試作できており，2006年下期にはA4サイズのサンプルを供給できるという。この10月に開かれた「FPD International 2005」で試作品を初公開したところ，「大きな反響があった」（旭化成 実装・表示材料マーケティングセンター 製品化技術グループ 主幹研究員の山木宏氏）と言う注1）。これまで微細なピッチを形成できる加工技術はあったが，大面積のフィルム基板では難しいと考えられていたためである。
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