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 液浸ArF露光の延命を見すえた技術開発。これが,2月に米国で開かれる露光技術の国際会議「31st International Symposium on Micro-lithography(Microlithography 2006)」での焦点になる。中でも注目できるのが,露光・加工を2回に分けて微細なパターンを形成するダブル・パターニングや,回路レイアウトを解像しやすい形に最適化するDFM(design for manufacturability)技術の開発である。

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