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 米IBM Corp.は米JSR Micro, Inc.と協力し,液浸ArF露光で線幅/線間隔29.9nmのパターンを解像できたと発表した。JSRの高屈折率液体と,IBMの高屈折率光学エレメントを使った2光束干渉露光装置「NEMO」を組み合わせて実現した。

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