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 露光技術の国際会議「31st International Symposium Microlithography(Microlithography 2006)」が米国サンノゼで開幕した。参加人数は学会と展示会を合わせて昨年並みの約4800人である。基調講演では米Intel Corp. Senior Fellow, Technology and Manufacturing Group Director, Advanced LithographyのYan Borodovsky氏が露光技術戦略について語った。

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