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 「Microlithography 2006」のEUV光源セッションでは技術開発の競争が激化していることが読み取れる。「EUV Source I」のセッションでは,独Xtreme technologies GmbH,独Philips GmbH,米Cymer, Inc.と日本のEUVA(極端紫外線露光システム技術開発機構)がそれぞれ講演した。

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