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 オランダASMLは,液浸ArF露光に起因する欠陥の問題をほぼ解決し,「本格的な量産に向けて装置の準備が整った」(同社Director Product MarketingのRon Kool氏)とコメントした。今回の「Microlithography 2006」では台湾TSMCをはじめとするユーザー側からの評価結果を紹介している。

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