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 逆転の発想でマスク・パターンを設計する「ILT(inverse lithography technology)」と呼ぶ技術に注目が集まっている。ILTは目標とするウエーハ上の露光形状を基に,光の振る舞いを数学的に逆算することによって,理想のマスク・パターンを導き出す手法である。現状では回路レイアウトをマスクの基本形状とし,そこに修正を加えながらウエーハ上の露光形状を調整していくのでILTとは逆である。ここへ来てゲート長65nmのFPGA(field programmable gate array)にILTを使い,従来よりも露光特性を改善できた事例が登場するなど,実用化も夢ではない状況になってきた。

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