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 エスアイアイ・ナノテクノロジー(SIIナノテク)は,LSIメーカーが設計したマスク描画データに対して,実際にマスクの描画や検査ができるかチェックするツール「SmartMRC」を大日本印刷と共同で開発した。2006年4月から発売する。OPC(光近接効果補正)が多用されるようになった現在では,LSI設計時にマスクの描画や検査ができないほど細かいパターンが生成されることがある。このようなパターンを,事前に検出・排除することによってマスク製造の手戻りを防ぐ。

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