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 露光時の光近接効果だけではなく,エッチング時のパターン依存性まで補正する「PPC(Process and Proximity Compensations)」と呼ぶ技術を使ったDFM(design for manufacturability)サービスをベンチャの米Invarium, Inc.が日本市場で本格展開する。プリミアテクノロジーズと提携し,日本やアジアのLSIメーカーに売り込む。

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