水液浸に次ぐ40nm以下の世代にどのリソグラフィを使うかは，現在大きな懸念事項となっている。今回の「3rd International Symposium on Immersion Lithography」ではその中の有力候補として高屈折率材料による高NA化の現状が報告された。全体としては高屈折率液体とLuAGを使ってNA1.55から将来的には1.65や1.70まで狙っていきたいというのが流れとなっている。
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