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 液浸ArF露光技術が2006年内の量産開始に向け,最終段階に入った。純水を使った液浸露光の次を担う高屈折率材料を使った液浸露光技術も,ここへ来て開発が活発化している。こうした状況が,この10月に京都で開かれた液浸露光技術に関する国際会議「3rd International Symposium on Immersion Lithography」で明らかになった。また,32nm世代以降の本命と見られるEUV(extreme ultraviolet)露光技術に関しては,プロセス開発向けのアルファ機が出荷されたことで技術開発が一気に加速するとの期待が高まっている。

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