液浸ArF露光技術が2006年内の量産開始に向け，最終段階に入った。純水を使った液浸露光の次を担う高屈折率材料を使った液浸露光技術も，ここへ来て開発が活発化している。こうした状況が，この10月に京都で開かれた液浸露光技術に関する国際会議「3rd International Symposium on Immersion Lithography」で明らかになった。また，32nm世代以降の本命と見られるEUV（extreme ultraviolet）露光技術に関しては，プロセス開発向けのアルファ機が出荷されたことで技術開発が一気に加速するとの期待が高まっている。
この記事は会員登録で続きをご覧いただけます
-
会員の方はこちら
ログイン -
登録するとマイページが使えます
今すぐ会員登録（無料）
日経クロステック登録会員になると…
・新着が分かるメールマガジンが届く
・キーワード登録、連載フォローが便利
さらに、有料会員に申し込むとすべての記事が読み放題に！
春割キャンペーン開催中！
＞＞詳しくは
日経クロステックからのお薦め
日経BP 総合研究所がお話を承ります。ESG／SDGs対応から調査、情報開示まで、お気軽にお問い合わせください。
ブランド強化、認知度向上、エンゲージメント強化、社内啓蒙、新規事業創出…。各種の戦略・施策立案をご支援します。詳細は下のリンクから。
「デジタル＆ソリューション」をキーワードに、多様な事業を展開しています。
日経BPは、デジタル部門や編集職、営業職・販売職でキャリア採用を実施しています。デジタル部門では、データ活用、Webシステムの開発・運用、決済システムのエンジニアを募集中。詳細は下のリンクからご覧下さい。
