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 液浸露光の普及と32nm世代向け技術開発の本格化―。これらが,2007年以降の半導体装置・部材業界に新たな事業機会を生み出す。ウエーハに液体を接触させる液浸露光の普及は,露光装置だけではなく,塗布・現像装置や洗浄装置,検査装置にも変革が求められる。EUV(extreme ultraviolet)露光や各種新材料の実用化を目指す32nm世代向けの技術開発では,新コンセプトのレジスト材料をはじめ,革新的な技術が求められる。こうした装置・部材各社の技術提案が,この12月に開かれる「セミコン・ジャパン2006」に見ることができる。

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