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 CMP(化学的機械研磨)スラリーに使われる砥粒の製造に適した湿式超微粒子化装置をスギノマシンが開発した。CMPスラリーに使われる砥粒は,CMP工程の研磨量のバラつきを抑えるために粒径が均一性であること,CMP工程での不純物混入を防ぐために砥粒に不純物が含まれないこと,の二つの特性が強く求められる。これに対し,今回スギノマシンが開発した湿式超微粒子化装置は,その微粒子化のメカニズムから原理的に不純物が混入しにくい。また,開発した装置で粒径分布を調べたところ,高い均一性を実現できた。同社は超高圧ウォーター・ジェットを利用した産業機械および工作機械を主力としており,今回は原材料のナノレベルで微粒化できる湿式微粒化装置「スターバースト」シリーズの新製品として,極少量の原料に対応できる「スターバースト ミニ」を開発した。同シリーズでは,アルミナ(AL2O3)や炭化ケイ素(SiC)などの電子材料やカーボン・ブラックなどの原料を,超高圧に加圧して衝突させて超微粒子化するため,従来の微粒子化装置のように微粒子化の最中に原料以外の物質が混入する心配がない。同社ではCMPスラリーへの応用に加え,化粧品,電子部品,健康食品,医薬品などの分野における新規素材開発や製造現場への導入を進めている。

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