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 米Intel Corp.は,ニューメキシコ州Rio Ranchoの半導体工場「Fab 11X」に設計ルール45nmのプロセス技術を導入するため,10億~15億米ドルを投じると発表した(発表資料)。2008年下期には同工場で45nmプロセスによる量産を立ち上げる計画だ。

 ニューメキシコ州の拠点そのものは27年の歴史を持ち,Fab 11Xは2002年10月よりIntel社で初めての300mmウエハー対応の量産工場として稼動してきた。現在は90nmのプロセス技術を採用している。大型投資の報を受けて州知事のBill Richardson氏は,「ニューメキシコを先端技術の中心地にすべく努力を続けてきた。10億米ドル超の投資は我々の努力が実った証」と喜びのコメントを寄せた。

 Intel社では,オレゴン州の既存工場「D1D」,アリゾナ州に建設を進めている「Fab 32」で2007年下期から45nmプロセスによるマイクロプロセサの量産を始める計画(Tech-On!関連記事)。同じく建設中のイスラエル工場「Fab 28」では2008年上期に量産を始めるとしており,計画通りに進捗すれば,Fab 11Xは4つめの45nm工場になる。なお,Fab 32への投資額は30億米ドル,Fab 28は35億米ドルという。