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 半導体ウエーハの大口径化,液浸露光技術の登場で,従来より処理が難しいとされていたウエーハ周辺部(ベベル)の洗浄の重要性がクローズアップされてきた。いわゆるベベル洗浄技術である。この課題に対して,各社各様のアプローチが検討されている。知財戦略の視点からこの技術開発が与える影響を分析してみたい。(NIKKEI MICRODEVICES3月号から