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 米Novellus Systems, Inc.は,7月10日~12日に米国サンフランシスコで開かれるLSI製造装置・部材に関する展示会「SEMICON West 2000(Wafer Processing)」でCu配線向け300mmウエーハ対応装置をズラリと並べる。

 SEMICON West 2000の前夜にあたる7月9日に報道関係およびアナリスト向けに内容を披露した。

 展示会場には計5機の300mm対応装置が並んでいた。中でも最大の目玉は,(1)低誘電率膜向け新型プラズマCVD装置「VECTOR」である。四つのチャンバで低誘電率膜「CORAL」とSiCエッチ・ストッパを連続成膜できる。17時を合図に関係者にその姿を公開した。外見は同社のプラズマCVD装置「SEQUEL」と似ているが,比誘電率2.7のCORALと比誘電率4.4のSiCを組み合わせて実効的な比誘電率3を実現できるとする。従来のSiOF低誘電率膜とSi3N4エッチ・ストッパの組み合わせに比べて配線間容量を約37%削減できるという。

 300mm対応装置としてはVECTORのほかに,(2)バリヤー・メタル,およびCuシード層を形成するスパッタ「INOVA xT」,(3)Cu電解メッキ装置「SABRE xT」,(4)高密度プラズマCVD装置「SPEED」,およびプラズマCVD装置「SEQUEL」,(5)W向けCVD装置「ALTUS」が並んでいる。