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 オランダASM Lithography社は,台湾Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd.(TSMC)から300mm露光装置を受注したと発表した。TSMCの300mm試作ラインへKrFエキシマ・レーザー露光装置とi線露光装置を納入する。

 これらの露光装置に使われている装置技術は,300mmウエーハ向けに新たに開発した技術であり,高いスループットを実現できるとする。今回の装置技術を使ってi線からArFエキシマ・レーザーの3世代に対応し,出荷開始は2000年第3四半期になる予定である。