信越化学と凸版が45nm，32nm世代の半導体向けフォトマスク・ブランクスを共同開発

信越化学工業と凸版印刷は，45nm，32nm世代の半導体製造向けフォトマスク・ブランクスを共同開発した。このブランクスに最適化したフォトマスク製造プロセスも開発している。今回の成果を基に信越化学は，ハイエンドのフォトマスク・ブランクス事業に進出するとしている。