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 オランダASM Lithography社が300mmウエーハ対応のスキャン露光装置用きょう体「TWINSCAN」を開発,7月10日からサンフランシスコで開幕した「SEMICON West2000」で発表した。TWINSCANを使った最初の製品「AT:700S」の受注を同時に開始,2000年第3四半期から出荷する予定である。

 TWINSCANではウエーハ・ステージを2重構造にした。ウエーハを直接搭載するステージが,さらに一回り大きなステージに搭載され,これを露光装置本体に取り付けている。この上でウエーハを走査させる際,ウエーハを直接取り付けたステージと一回り大きなステージは逆方向に移動するようにした。ウエーハを直接取り付けたステージの方が高速に移動するため,ウエーハ自体はこれと同じ方向に移動する。このような方式を採用することで,ウエーハを走査する際に生じる振動を抑え,高速走査を実現している。

 一回り大きなステージは,移動速度は遅いが質量は大きいため,ウエーハを直接取り付けたステージが引き起こす振動を抑えることができる。走査速度が向上した結果,300mmウエーハの場合で100枚/時を超える高スループットを実現できた。光源はi線,KrFエキシマ・レーザー,ArFエキシマ・レーザーを搭載できる。