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 ニコン,オランダASM Lithography(ASML)社,キヤノンの露光装置大手3社の300mmウエーハ対応KrFエキシマ・レーザー・スキャン露光装置を相次いで発表,7月10日からサンフランシスコで開幕した「SEMICON West2000」に各社の製品が出そろった。

 この中で解像度の向上に最も注力したのがニコンである。同社は開口数(NA)を従来の0.68から今回は0.75まで一気に向上した。これに対してスループットの向上に注力したのがASMLである。光学系は従来のまま変更せず,きょう体の改良によって300mmウエーハの場合で100枚/時を超える高スループットを達成した。キヤノンは,解像度とスループットの両面でこれら2社の中間になっている。