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 ウエーハ面内均一性が1σで約1%と高い減圧CVD装置「Lynx3」を米Genus, Inc.が開発,「SEMICON West2000」で発表した。

 この製品は,高いウエーハ面内均一性を実現するとともに,60枚/時の高スループットを達成している。このために搬送系を一新し,五つのプロセス・チャンバと搬入・搬出チャンバそれぞれ一つの合計7チャンバを設置できる装置構成にした。