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 現在進められている半導体技術の国際ロードマップ「International Technology Roadmap for Semiconductors(ITRS)」の2000年版の策定作業において,米Intel Corp.を中心とした米国勢が,一層の微細化前倒しを提案していることが明らかになった。

 ITRSは1年ごとに改定されて年末に発表される。現在は,この策定作業中である。このITRSの1999年版では2002年に0.13μmプロセスを実用化することになっていた。これを前倒しして2001年にする。これは,2001年に0.13μmプロセスと300mmウエーハを組み合わせて量産を開始するIntelの計画に一致しており,Intelの意向を色濃く反映した形になっている。さらに,この次のプロセス技術に関しては,2004年に前倒しするとともに,従来の0.1μmプロセスではなく0.09μmプロセスにしようとしている。