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 米Avant! Corp.は,LSIのマスク・パターンのOPC(optical proximity correction:光近接効果補正)用EDAツール「Taurus-OPC」をバージョン99.2にアップ・グレードした(リリース文)。元データの階層性をうまく利用したり,光学的シミュレーション(露光シミュレーション)を行なう単位の設定方法改良することなどで,既存バージョンに比べて処理速度を平均で4倍,必要メモリ容量を平均で1/3に抑えるられるようになったという。

 また,今回のアップ・グレードによって,セルやレイヤ単位だけではなく,指定した領域単位でモデル・ベースOPCとルール・ベースOPCを混在させられるようになった。さらに,同社のDRCツール「Hercules」でルール・ベースOPCを行なう際に使うルール・テーブルを自動的に発生する機能も加わった。ルール・ベースOPCについては,図形演算を得意とするHerculesの方がTaurus-OPCよりも処理時間が短い場合が多いという。なお,Herculesで行なった補正結果をTaurus-OPCの光学的シミュレーションで検証する機能がある。