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　300mmウエーハによるLSI量産ラインに向けた新しい生産技術の開発が着実に進んでいる。

　1999年10月11日～13日に米カリフォルニア州サンタクララ市で開かれる「8th International Symposium on Semiconductor Manufacturing（ISSM'99）」では，300mmラインの新しい量産対応技術が相次いで登場する。そのほか，生産ラインの低コスト化，高効率化，新規プロセス技術，環境保全の新技術が注目できる。