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 競合EDAベンダや半導体メーカ,機器メーカが,米Cadence Design Systems, Inc.に同社の「LEF」を公開するよう迫っている。LEF(Library Exchange Format)は,LSIの回路ライブラリのマスク・レベル・データを記述する形式である。もともとCadence社のツールの独自形式だったが,同社のレイアウト・ツールの普及によって,現在は,事実上の業界標準になっている。

 Cadence社は1998年6月のDAC(Design Automation Conference)で,LEFおよびDEF(Design Exchange Format)の無償公開する方針を明らかにしたが,今のところ,それは行なわれていないようだ。その代わりに,Cadence社はLEFにアクセスするためのAPI(application programming interface)を提供する意向を示している。

 こうしたCadence社の動きに,不安を感じたEDAベンダなどが,回路ライブラリのマスク・レベル・データ記述形式を標準化するための組織「OPEF ( Open Physical Exchange Format )」を旗揚げした(リリース文)。OPEFは,事実上の業界標準形式にアクセスするためのAPIが特定の1社にコントロールされているのは好ましくないとし,Cadence社に対してボランティアでLEFをOPEFに移管するように求めている。OPEFは,米OVI(Open Verilog International)の組織として活動していく。OVIは,Cadence社の論理シミュレータ「Verilog」の記述形式「Verilog-HDL」を擁護推進する団体である。

 3月1日付けでOPEFを擁護する企業ことを明らかにした企業は以下の通り。米Avant! Corp., 米Frequency Technologies, Inc.,米Gambit Design Automation, Inc., Internetcad社, 米Magma Design Automation, Inc., 米Mentor Graphics Corp., 米Model Technology, Inc.,米 Monterey Design Systems, Inc., 米National Semiconductor Corp., 米Sun Microsystems, Inc., ドイツSiemens AG, 米Synopsys, Inc., 米Texas Instruments, Inc., 米TimberWolf Systems, Inc., 米Ultima Interconnect Technology, Inc.および米Veribest, Inc.である。

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