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 米Numerical Technologies (NumeriTech) , Inc.は,位相シフトおよびOPC (optical proximity correction)対応のマスク・レイアウトを生成するためのEDAツール「iN-Phase」を発売した(リリース文1)。入力はGDS?形式のLSIのマスク・レイアウト,出力は位相シフト対応のGDS?形式マスク・レイアウトである。この製品は,三つのモジュール,すなわち,「iN-Phase Design」,「iN-Phase Verification」,「iN-Phase OPC」からなる。

 iN-Phase Designはユーザがあらかじめ指定した基準に合わせて,位相シフト対応のマスク・レイアウトを自動生成する。そして,当該箇所に位相シフトの構造を作る。iN-Phase Verificationは,プロセス・シミュレータを使って,OPCが必要な箇所を特定する。iN-Phase OPCは,実際にOPCパターンを加える。

 米Motorola Inc.は,「NumeriTech社のツールを最小加工寸法のPowerPCチップの設計に適用した」(Warren D. Grobman氏,同社 director of Computational Technologies Laboratory,Advanced Device News関連記事)。また,今回,米VLSI Technology, Inc.(リリース文2),台湾TSMC(Taiwan Semiconductor Manufacturing Co.,Ltd.,リリース文3),台湾UMC Group(リリース文4)がそれぞれ,NumeriTech社のツールを採用したり,採用予定であることを発表している。さらに,NumeriTech社は,ベルギーのIMECと共同で技術開発することを明らかにした(リリース文5)。