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 米Duet Technologies, Incは,半導体プロセス微細化時にマクロセル(スタンダード・セル)のマスク・レイアウトを更新する技術「MasterPort」を,他社にも積極的に公開していくと発表した(リリース文)。同技術はこれまで社内や一部の戦略的提携を結んだ顧客だけが利用していた。今後は,広く提供していく。Duet Technologies社によれば,米Boeing Co.や米S3, Inc.が同技術のユーザという。リリース文にはS3社のDavid Hoff氏(Engineering Director)がコメントを寄せている。